當(dāng)前位置：上海納騰儀器有限公司>>F3 單點(diǎn)膜厚測(cè)試儀>>F3 單點(diǎn)膜厚測(cè)試儀

F3 單點(diǎn)膜厚測(cè)試儀

返回列表頁(yè)

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)F3

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地上海

在線(xiàn)詢(xún)價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話(huà)

農(nóng)機(jī)網(wǎng)采購(gòu)部電話(huà)：0571-88918531QQ:2568841715

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2025-01-12 12:46:35瀏覽次數(shù)：59次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自農(nóng)機(jī)網(wǎng)

產(chǎn)品分類(lèi) 品牌分類(lèi)

  MPI Titan射頻配件
  內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀
  激光制樣
  ezAFM-便攜式原子力顯微鏡
  半自動(dòng)晶圓鍵合儀
  原子層沉積系統(tǒng)ALD產(chǎn)品
  高溫3D打印機(jī)
  方塊電阻測(cè)試儀
  S100型數(shù)字源表
  CLONE雙模式等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)
  液體顆粒度儀
  Desk V 薄膜沉積解決方案
  BenchTop Turbo熱蒸發(fā)和樣品制備
  Desktop Pro薄膜沉積-磁控濺射
  DV-502 熱蒸發(fā)薄膜沉積
  Explorer 電子束、磁控、熱蒸發(fā) 薄膜沉積
  無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
  Novascan紫外臭氧清洗儀
  Leica DCM 3D 三維測(cè)量顯微鏡
  金相顯微鏡
  Leica DM2500M正置金相顯微鏡
  Leica DVM2500 徠卡數(shù)字顯微鏡
  多功能無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
  SERS芯片基底
  陰極熒光成像光譜探測(cè)系統(tǒng)
  Minitom切割設(shè)備
  AFM校準(zhǔn)標(biāo)樣
  GGB微波探針
  Quantifoil多孔載網(wǎng)
  GGB校準(zhǔn)標(biāo)樣
  離子束刻蝕/沉積系統(tǒng)
  AFM基底
  TS150-HP 高功率探針臺(tái)
  Scanwave 掃描微波近場(chǎng)阻抗顯微鏡
  MVI散射式掃描近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
  TS150 6寸手動(dòng)探針臺(tái)
  4200A-SCS參數(shù)分析儀
  F40顯微膜厚測(cè)量?jī)x
  Zeta20 多模式三維光學(xué)輪廓儀
  原位納米壓痕儀
  EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
  Nano observer 電學(xué)原子力顯微鏡
  NX-3DM 可旋轉(zhuǎn)全自動(dòng)原子力顯微鏡
  NX-Wafer 全自動(dòng)晶圓檢測(cè)原子力顯微鏡
  P17 自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
  NX-HDM 全自動(dòng)缺陷檢測(cè)原子力顯微鏡
  NX-PTR 全自動(dòng)在線(xiàn)檢測(cè)原子力顯微鏡
  NX-Hivac 高真空原子力顯微鏡
  P170 全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
  F50/F54 自動(dòng)膜厚測(cè)量?jī)x
  MPI Titan射頻探針
  D300 經(jīng)濟(jì)型高精度臺(tái)階儀
  NX20 高精度全自動(dòng)大面積原子力顯微鏡
  VertiSense 掃描熱學(xué)顯微鏡
  XE-15 大樣品臺(tái)工業(yè)原子力顯微鏡
  D500 高精度臺(tái)階儀
  D600 高精度探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
  Profilm 3D光學(xué)輪廓儀
  Nano Flip原位納米壓痕儀 SEM/AFM/LM
  iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
  X2E系列數(shù)位可調(diào)干燥柜
  nGauge便攜式原子力顯微鏡
  NX10 高精度原子力顯微鏡
  P7 晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
  LiteScope 電鏡原位多功能原子力顯微鏡
  XE-7 經(jīng)濟(jì)型原子力顯微鏡
  F20單點(diǎn)膜厚測(cè)量?jī)x
  SPRm200 表面等離子共振顯微鏡
  iMicro高精度微納米壓痕儀
  電鏡原位偏壓加熱系統(tǒng)
  高精度電子束曝光系統(tǒng)
  MVI原子力顯微鏡與可見(jiàn)-紅外-拉曼聯(lián)用系統(tǒng)
  原位拉伸臺(tái)
  聚合物筆印刷
  原位TEM四自由度納米操縱樣品桿
  原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)Nano Indenter® G200
  光譜型橢偏儀
  NX12 生物型原子力顯微鏡
  Zeta-388 自動(dòng)多模式光學(xué)輪廓儀
  TS200-HP 高功率探針臺(tái)
  Zeta-300 多模式光學(xué)輪廓儀
  TS2000-DP 高功率探針臺(tái)
  TS50手動(dòng)小型探針臺(tái)
  TS2500-RF 全自動(dòng)射頻探針臺(tái)
  F3 單點(diǎn)膜厚測(cè)試儀
  TS200 8寸手動(dòng)探針臺(tái)
  TS2000 自動(dòng)探針臺(tái)
  PA1000功率分析儀
  MTA02微力位移測(cè)試操縱系統(tǒng)
  TTR500系列矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀（VNA）
  RSA5000系列頻譜分析儀
  高精度納米拉伸系統(tǒng)Nano UTM T150
  MDO34示波器
  原位AFM in SEM
  X1系列數(shù)位可調(diào)干燥柜
  脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）
  主動(dòng)隔振臺(tái)AMT
  原位MEMS芯片和同步輻射Holder
  In-SEM HT高溫原位納米壓痕儀
  Duramin-4硬度計(jì)
  被動(dòng)隔振臺(tái)GWA-TM
  6英寸納米壓印機(jī)NIL-150
  Vista-IR 高分辨納米紅外成像與光譜系統(tǒng)
  F60 全自動(dòng)膜厚測(cè)試儀
  F30 在線(xiàn)膜厚測(cè)試儀
  柱狀模板
  徠卡多功能離子束研磨儀 Leica EM RES102
  徠卡自動(dòng)修塊拋光機(jī) Leica EM TXP
  納米壓印膠
  LABOTOM-5/-15切割設(shè)備
  AFM標(biāo)準(zhǔn)樣品
  CITOPRESS 鑲樣機(jī)
  CITOPRESS 熱室
  A15系列數(shù)位可調(diào)干燥柜
  拉曼增強(qiáng)試劑
  SEM 耗材
  高溫原位納米壓痕儀
  主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
  主動(dòng)隔振臺(tái)ARISMD
  被動(dòng)隔振SOTOTT
  被動(dòng)隔振臺(tái)GWA-M
  被動(dòng)隔振臺(tái)GWA-TO
  主動(dòng)隔振臺(tái)PMT
  TS3000 自動(dòng)探針臺(tái)
  MicroXAM800 白光干涉儀
  TS300 12寸手動(dòng)探針臺(tái)
  3英寸納米壓印機(jī) NIL75
  Diener FEMTO等離子清洗機(jī)
  FT-NMT04納米力學(xué)性能測(cè)試系統(tǒng)
  ACCUTOM-10/-100切割設(shè)備
  EZ系列立體顯微鏡
  DM 4500P半自動(dòng)智能數(shù)字式偏光顯微鏡
  徠卡M系列立體顯微鏡LeicaM165FC/205FA
  S系列立體顯微鏡
  徠卡M系列立體顯微鏡LeicaM125/165C/205C/205A
  DM750P專(zhuān)業(yè)偏光顯微鏡
  Z系列立體顯微鏡Leica Z6 APO
  全手動(dòng)實(shí)驗(yàn)級(jí)倒置金相顯微鏡
  DVM 5000三維視頻顯微鏡
  DM 2500P全手動(dòng)式專(zhuān)業(yè)偏光顯微鏡
  Leica DM750M正立式顯微鏡
  CITOVAC
  定制型隔振系統(tǒng)
  TEM耗材
  徠卡高真空濺射鍍膜儀 Leica EM SCD500
  X射線(xiàn)圖
  EUV/X射線(xiàn)反光鏡
  X射線(xiàn)菲涅耳波帶板（FZP）
  光柵模板
  AFM探針
  MPI 射頻校準(zhǔn)基板
  GGB有源高阻抗針尖
  GGB直流探針
  孔狀模板
  棱鏡耦合儀
  Duramin-40硬度計(jì)
  4英寸納米壓印機(jī) NIL-100
  液體顆粒度儀-LPC
  ADR低溫恒溫干式mK系統(tǒng)
  膜厚測(cè)量?jī)x
  Estable主動(dòng)隔振臺(tái)
  MTA03 綜合三維納米力學(xué)操縱系統(tǒng)
  BI-4500 高通量全自動(dòng)表面等離子共振儀
  BI-2500 臺(tái)式表面等離子共振儀
  Candela CS920表面缺陷檢測(cè)儀
  光學(xué)表面缺陷分析儀
  精密玻璃切割機(jī)(桌面型）
  徠卡室溫超薄切片機(jī) Leica EM UC7

暫無(wú)信息

上海納騰儀器有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：166條

所在地區(qū)：

詢(xún)價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳細(xì)介紹

KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測(cè)量，其測(cè)量范圍從nm-mm，可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚精確測(cè)量，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產(chǎn)品，可測(cè)量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測(cè)量范圍1nm到mm級(jí)。F3-sX可測(cè)試眾多半導(dǎo)體及電介質(zhì)層的厚度，可測(cè)厚度達(dá)3毫米。F3-sX系列配置10微米的測(cè)試光斑直徑，因而可以快速容易的測(cè)量其他膜厚測(cè)試儀器不能測(cè)量的材料膜層。

測(cè)量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡(jiǎn)便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。

一、主要功能

主要應(yīng)用

測(cè)量較厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率：

技術(shù)能力

光譜波長(zhǎng)范圍：380-1580 nm

厚度測(cè)量范圍：10nm-3mm

測(cè)量n&k最小厚度：50 nm

準(zhǔn)確度：取較大值，50nm或0.2%

精度：5nm

穩(wěn)定性: 5nm

光斑大小：10µm

樣品尺寸：直徑從1mm到300mm或更大