EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。
EIS-200原理：
利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達(dá)樣品表面，對樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。
EIS-200具有以下優(yōu)點：
? 方向性好，各向異性，陡直度高，側(cè)向刻蝕少
? 分辨率高
? 不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進(jìn)行蝕刻
? 可控制蝕刻Taper角
? 可以設(shè)定多樣的實驗條件
? NPD(納米圖案成膜單元)選項（如下圖）
主要功能
納米級圖案刻蝕
高深寬比蝕刻
離子束沉積
表面清潔
離子減薄
技術(shù)能力
應(yīng)用
納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等
? SiO2 on Si substrate
? Diamond Substrate（金剛石）
? Quartz (Mask)
? Oriented PET film
