KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測(cè)量，其測(cè)量范圍從 nm-mm，可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚精確測(cè)量，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品，可測(cè)量從幾 mm到450mm 大小的樣品，薄膜厚度測(cè)量范圍 1nm到mm 級(jí)。Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測(cè)繪兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測(cè)繪薄膜厚度，配備R-θ 極坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)和訂制化樣品盤，樣品直徑可達(dá)450毫米。
測(cè)量原理-光譜反射
光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。 因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò) 10um 的，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術(shù)都可用。 而且具有快速，簡(jiǎn)便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。
主要應(yīng)用
測(cè)量厚度、折射率、反射率和穿透率
- 單層膜或多層膜疊加
- 單一膜層
- 液態(tài)膜或空氣層
- 膜厚2D和3D mapping繪制
技術(shù)能力
- 光譜波長(zhǎng)范圍：190-1700 nm
- 厚度測(cè)量范圍：1nm-250 μm
- 測(cè)量 n&k 最小厚度：50 nm
- 準(zhǔn)確度：取較大值，1nm 或 0.2%
- 精度：0.02nm
- 穩(wěn)定性：0.05nm
- 光斑大小：1.5mm
- 標(biāo)準(zhǔn)卡盤：直徑 200mm 或 300mm
- 選擇顯微鏡模塊，可升級(jí)為 F54
半導(dǎo)體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、CMP
液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO
光學(xué)鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
